• 超高真空系列产品
    超高真空系列产品

    超高真空系列产品

        加拿大Johnsen Ultravac Inc.(JUV)公司成立于1961年,以其优异的性能与表现在全球范围内赢得了良好的声誉,被誉为超高真空领域设备制造商中的“奥德赛”!多年来,JUV一直保持着极高标准,成功地将用户的要求转化为高级的科研设备,同时也为科研、商业及工业等领域输出了大量的精密超高真空仪器。 

        JUV公司的核心是设计并制造超高真空腔体和系统,并已经成为全球超高真空产品的优质供应商!从粒子加速线组件到超高真空线性传输设备、XYZ操作台和真空系统,都沉淀和蕴含了JUV公司丰富的经验和精确的设计加工能力。无论是用户定制产品,还是标准化的??椴?,JUV公司始终将了解客户的需要、回应他们提出的苛刻要求放在首位!

        目前,JUV公司的用户已经遍及了北美、欧洲和亚洲众多国家的科研机构和企业的实验室。从客户提出的概念到设计和加工,JUV一直引领着前沿超高真空系统、组件和设备的发展方向!

        Johnsen Ultravac公司生产的超高真空腔体性能优异。在腔体的制造过程中,JUV的工程师们特别重视消除任何可能的漏气现象,腔体的真空度都能好于10-11Torr。每一个端口都经过精心的校准,确保它们能够准确的装载各种配件。在进行切削加工时,特别注意避免腔体遭到各种材料的污染;在完成切削后,所有的部分会被仔细清洗,并在超净间中进行焊接;最后,在完成端口位置的再一次确认后,超高真空腔体才会进行最后的清理与包装。

    真空系统

        从概念的提出,到设计、加工和安装,Johnsen Ultravac公司的专业技术人员能根据用户的具体要求,设计制造出满足任何应用的系统。多年来积累的经验使Johnsen Ultravac为用户制造出配置复杂的腔体、快速进样室、样品传送装置、旋转台、升起/摆动机械装置、自动电子控制的水/气分配系统等。

        在制造过程中,Johnsen Ultravac始终采用高纯度的材料,严格质量控制,使得系统的真空度好于10-11 torr。这些系统包括有:

    ?  混合等离子体喷射系统(Hybrid Plasma Spray System)
    ?  电子束蒸发系统(E-Beam Evaporation System)
    ?  电子回旋共振/电感耦合等离子体系统(ECR/ICP System)
    ?  激光沉积系统(Laser Deposition)
    ?  溅射系统(Sputtering System)
    ?  分子束外延真空系统(MBE Vacuum System)

     

    1、混合等离子体喷射系统(Hybrid Plasma Spray System)

        该系统由不锈钢支架和不锈钢双层水冷腔体组成,配备有:等离子体炬(Plasma Torch)、射频电源产生器(RF Power Generator)、配套的线路、衬底控制台、泵、离子规、过程控制系统等。

    ?  射频或直流电感耦合等离子炬(RF/DC-ICP Torch)安装在腔体的顶端。等离子体通过混合气体,经电弧点燃而产生。

    ?  沉积源一般为粉末或者液体,利用等离子体喷射引入到墙体中。当使用液体的时候,会形成纳米结构的镀层或沉积层,且成分变化较大。

    ?  衬底的操作是利用6轴样品台进行的,样品可以进行高速旋转,加热的温度可达600℃。

    ?  混合气体由一个气体配给系统提供,它可以同时混合四种气体,并配有流速控制单元、MFC 电源、LCD显示器、输气净化阀门和各种不锈钢气路接口。

    ?  整个腔体由一个干泵和旋转增压泵组成,并配备了水冷前级吸收装置、空气过滤器、节流阀等。真空度由电容压力表和Pirani/压力传感器测得。

    ?  计算机中加载的PLC/PC真空过程自动控制系统可以对泵气和等离子体沉积过程进行监控,操作简单。在生长过程中,过程?;に梢员Vび没г谑褂霉讨?,不会出现意外情况。

     

      该系统采用??榛砟罱猩杓朴肷?,完全能够满足用户日后的升级需要。

       

     2、电子束蒸发系统(E-Beam Evaporation System)

        该系统采用2-真空腔设计,一键式操作,同时配有多个电子束蒸发源。存放有衬底的旋转木马位于主真空腔上方的快速进样室中,通过阀门与主真空腔隔开。在对快速进样室抽完真空后,打开阀门,即可将衬底对准电子束蒸发源。蒸镀完成后,关闭阀门,将快速进样室放气,即可取出样品,而主真空腔仍然保持较好的真空。

     

     特点:
    ?  自动抽气和放气;
    ?  系统状态液晶显示面板;
    ?  从大气进入超高真空仅用时30分钟;
    ?  马达驱动的多样品旋转木马;
    ?  直径3 inch样品的均匀度好于±0.25%;
    ?  设备结构紧凑,操作方便,维护简单。
     

     

     3、电子回旋共振系统/电感耦合等离子体系统(ECR/ICP System)


      ECR/ICP系统可以同时对三个直径为2’’的样品进行处理,或者对一个5’’样品进行处理。主真空腔利用分子泵进行抽气,真空腔好于1×10-10mbar,可选配钛升华泵。该系统配有19’’电子单元安放支架和电源配给面板。

     

    4、激光沉积系统(Laser Deposition)

        该系统包括一个外径为10’’的圆柱形真空腔体,配有:分子泵、真空阀门、两个样品操作台、带开闭器的高纯蓝宝石观察窗、靶架(Target Holder)和衬底架。用户可以任意选择六个靶中的其中一个,将其沉积到直径为2-3’’的圆形衬底上。在激光沉积过程中,衬底可以进行加热。衬底通过快速进样室引入到主真空腔中。系统的真空度好于2×10-10Torr。

     

    5、溅射系统(Sputtering System)

        该系统主要包括:真空泵、RF电源、配套的线路、磁控管、气路、虹膜阀、真空规、可加热的样品架和放置电子单元所需的19’’支架。在圆柱形真空腔上装有三个、间隔为120度的2’’或3’’RF磁控管。用户可以任意将三个溅射源组合,并沉积到衬底上。

        该系统为全金属结构,并用金属线将顶端和底部的法兰密封,真空腔的尺寸为18’’O. D. × 18’’ Height。 在底部金属线密封法兰的中心处,有一个外径为10’’的Conflat法兰,上面配有三个外径为2’’的RF磁控管,三个电磁阀、气路端口和水冷污染屏蔽罩。溅射枪能在4-5’’的靶衬底上,以100?/min Fe速率进行沉积,样品的均匀度好于±2%。


    6、分子束外延真空系统(MBE Vacuum System)
     

        分子外延系统包括了一个直径为24’’的多端口真空腔,内部配有LN2屏蔽罩,最多可以装载8个蒸发源。腔体的端口可以选配:观察窗、阀门、蒸发速率监控装置、RGA、RHEED、样品台、泵、真空规、传样杆等等。真空腔放置在一个不锈钢支架上,配有19’’电子单元安放支架和电源配给面板。真空腔体内部配备的加热器可以是整个腔体加热到250℃。


    XYZ样品台/样品操作台(XYZ Manipulators)

      Johnsen Ultravac XYZ样品台接口法兰的尺寸为外径2.75’’(波纹管内径1.5’’) ~ 外径13.25’’(波纹管内径10’’)。样品台坚固耐用,可以承受很大的重量,特别适用于表面化学和物理应用、MBE和操作与定位多样品等领域。

     


    操作台 操作台-8axis

     

      XY样品台可以作为独立的单元或者与线性移动装置联合使用。XYZ样品台使用不锈钢焊接,可以在10-10Torr真空中使用。针对不同使用条件的要求,我们可以提供:

     

    X&Y移动范围±0.50’’---±4.00’’
    可加热温度1200℃
    波纹管内径1.39’’---12.00’’LN制冷温度-160℃
    基座法兰外径2.75’’---14.00’’LHe制冷温度
    10K
    极坐标旋转360度衬底基片尺寸
    ≤300mm
    方位角旋转±180度
    承载重量
    225kg (4000系列产品)
    倾斜±30度 


    线性移动装置

     

    1000型系列产品
    该系列特别适用于快速进样室、样品制备室、放置台和样品处理台,它很容易地改装成多样品的托架。1000型产品采用聚四氟乙烯轴承支撑的齿条-小齿轮传动装置,齿条的材料为不锈钢经电子抛光加工而成。连接终端可自由调节,灵活性强。 
     2000型系列产品2000型线性移动装置采用挤压铝材料经阳极化抛光制成,可以烘烤到250℃。波纹管法兰的尺寸为2.75’’、3.38’’和4.50’’。Z方向上的移动采用了不锈钢ACME螺丝-铜螺母驱动,并由不锈钢导杆支撑,每旋转一周,Z方向上将移动5mm。用户可以选配气压缸组件来驱动Z方向上的移动。
    2000型可以用于样品的转移和处理过程中,具有加热和冷却、马达驱动、旋转平台和XY平台等功能与配置,且用户可以自由选择垂直或水平安放。

    3000&4000型系列产品

    该系列产品采用高等级的铝材料经阳极化抛光而制成的,可以烘烤到250℃。坚实的结构使得该产品具有最强的承重能力,并可垂直或水平安放。Z方向上的位置的准确性为0.1mm,每旋转一周,Z方向上将移动1mm。



    超高真空腔体


    Johnsen Ultravac公司的超高真空腔有很多种配置,可以提供适合用户各种特殊要求和性能的腔体。


    真空腔主要技术参数:

    ? 腔体漏率小于2×10-10atm cc/sec
    ? 0.5%端口对准
    ? 玻璃球抛光
    ? 7步清洗过程
    可?。?/strong>
    ? MU金属内层作为磁屏蔽罩
    ? 不锈钢内层,用于沉积系统
    ? 电镀抛光
    ? 水冷
    ? 低温保持器隔热罩



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