• 脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
    脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统
    脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统

    脉冲激光沉积、分子束外延薄膜制备系统


    美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商,提供多种薄膜制备系统,包括:

    ?  脉冲激光沉积(PLD)

    ?  电子束蒸发

    ?  热蒸发

    ?  反应溅射

    ?  热丝化学气相沉积(HFCVD)

    ?  热化学气相沉积系统(TCVD)


    这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave提供相关系统配件,例如基片加热装置、原位监测工具。此外,BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层,例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。


     1、脉冲激光沉积系统-PLD


    PLD产品特点:

    ?  超高真空不锈钢腔体

    ?  可集成热蒸发源或溅射源

    ?  可旋转的耐氧化基片加热台

    ?  流量计或针阀精确控制气体流量

    ?  标准真空计

    ?  干泵与分子泵

    ?  可选配不锈钢快速进样室

    ?  可选配基片-靶材距离自动控制系统

    ?  可制备:金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。



     

     

     



    2、物理气相沉积系统(Physical Vapor Deposition Plus)


    产品特点:

    ?  超高真空不锈钢腔体
    ?  电子束、热蒸发、脉冲激光沉积可集成

    ?  独立衬底加热,可旋转

    ?  多量程气体流量控制器

    ?  标准气压计

    ?  机械、分子、冷凝真空泵
    ?  可选不锈钢快速进样室

    ?  衬底和源距离可控

    ?  可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜




    3、热化学气相沉积系统-TCVD


     


    产品特点:

    ?  高温石英管反应器设计

    ?  温度范围:室温到1100度

    ?  多路气体精确控制

    ?  标准气压计

    ?  易于操作

    ?  可配机械泵实现低压TCVD

    ?  可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

    ?  液体前驱体喷头

    ?  2英寸超大完美温度均匀区



    4、热丝化学气相沉积系统-HFCVD


    产品特点:

    ?  水冷不锈钢超高真空腔

    ?  热丝易安装、更换 

    ?  4个不同量程气体控制器

    ?  标准气压计

    ?  衬底与热丝距离可调节

    ?  2英寸衬底加热、可旋转 

    ?  完美制备金刚石和石墨烯



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