美国BlueWave公司是半导体设备、材料生产商，提供多种薄膜制备系统，包括：
? 脉冲激光沉积(PLD)
? 电子束蒸发
? 热蒸发
? 反应溅射
? 热丝化学气相沉积(HFCVD)
? 热化学气相沉积系统(TCVD)
这些系统是理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wave提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
1、脉冲激光沉积系统-PLD
PLD产品特点：
? 超高真空不锈钢腔体 ? 可集成热蒸发源或溅射源 ? 可旋转的耐氧化基片加热台 ? 流量计或针阀精确控制气体流量 ? 标准真空计 | ? 干泵与分子泵 ? 可选配不锈钢快速进样室 ? 可选配基片-靶材距离自动控制系统 ? 可制备：金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格等。 |
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2、物理气相沉积系统（Physical Vapor Deposition Plus）
产品特点： ? 超高真空不锈钢腔体 ? 独立衬底加热，可旋转 ? 多量程气体流量控制器 ? 标准气压计 ? 机械、分子、冷凝真空泵 ? 衬底和源距离可控 ? 可用于金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 |
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3、热化学气相沉积系统-TCVD
| 产品特点： ? 高温石英管反应器设计 ? 温度范围：室温到1100度 ? 多路气体精确控制 ? 标准气压计 ? 易于操作 | ? 可配机械泵实现低压TCVD ? 可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜 ? 液体前驱体喷头 ? 2英寸超大完美温度均匀区 |
4、热丝化学气相沉积系统-HFCVD
产品特点： ? 水冷不锈钢超高真空腔 ? 热丝易安装、更换 ? 4个不同量程气体控制器 ? 标准气压计 ? 衬底与热丝距离可调节 ? 2英寸衬底加热、可旋转 ? 完美制备金刚石和石墨烯 |
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